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MgZnO紫外光電探測器專利機構
2014-08-25 來源:正航儀器 作者:正航網絡 閱讀:次
申請(專利)號:CN200810050587.1申請日:2008.04.10
公開(公告)號:CN101257064公開(公告)日:2008.09.03
主分類號:H01L31/18(2006.01)I范疇分類:
分類號:H01L31/18(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I
優先權:
申請(專利權)人:中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
地址:130033吉林省長春市東南湖大路16號
國省代碼:吉林;22
發明(設計)人:蔣大勇;張吉英;申德振;姚斌;趙東旭;張振中
國際申請:
國際公布:
進入國家日期:
專利代理機構:長春菁華專利商標代理事務所
代理人:王淑秋
分案申請號:
頒證日:
摘要:
本發明屬于半導體光電技術領域,涉及一種MgZnO紫外光電探測器的制備方法,通過交流磁控濺射制備不同帶隙寬度(3.37~4.13eV)的高質量MgZnO合金薄膜,并在此基礎上通過真空熱蒸發和濕法刻蝕的方法制備MSM結構電極的MgZnO紫外光電探測器。采用本發明制備的MgZnO紫外光電探測器具備高的紫外可見比和較低的暗電流等優點,適用于太陽紫外線輻射監控、火焰探測、導彈預警等。
主權項:
一種MgZnO紫外光電探測器的制備方法,其特征在于包括下列步驟:
a.使用交流磁控濺射臺,在襯底溫度為300~600℃條件下,對Mg摩爾濃度為5%~40%的MgZnO合金靶進行濺射,制備出MgZnO合金薄膜;
b.通過真空熱蒸發的方法,在已制備的MgZnO合金薄膜上蒸鍍Au膜。
c.制備金屬—半導體—金屬結構的電極。http://www.gzpengjie880.cn/
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